Ss-Küchen-Badewannen-Goldmantel-Maschine

Der Dünnschichtprozess ist ein wichtiger Prozess im Halbleiterprozess. Mit der rasanten Entwicklung der Halbleiterindustrie werden die Anforderungen an den Beschichtungsprozess immer höher. Je nach Herstellungsverfahren des Dünnfilms kann dieser in physikalische Dampfabscheidung (PhysicalVapor Deposition, PVD) und chemische Dampfabscheidung (Chemical Vapor Deposition, CVD) unterteilt werden. Die Magnetron-Sputterbeschichtung ist eine Art physikalischer meteorologischer Abscheidung, die in der Elektronik-, Bau-, Automobil- und anderen Industrien, insbesondere für großflächige Beschichtungen, weit verbreitet ist. Die Beschichtung durch Magnetron-Sputtern ist aufgrund ihrer hohen Geschwindigkeit, niedrigen Temperatur und der Fähigkeit, nahezu jedes Material zu sputtern, zu einem der am weitesten verbreiteten Verfahren zur Herstellung von Dünnschichten geworden. Die Gleichmäßigkeit des Films, die Qualität der Filmbildung, die Beschichtungsrate sowie die Prozessstabilität und Wiederholbarkeit der Magnetron-Sputterbeschichtung sind die Probleme, die den Menschen sehr am Herzen liegen, und die Stabilität der Ausrüstung bestimmt direkt die Stabilität des Prozesses.

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