Große Kammer-Lichtbogen-Ionen-Plasma-Beschichtungsmaschine

Ionenplattieren ist ein Verfahren, bei dem das Gas oder das verdampfte Material durch Gasentladung unter Vakuumbedingungen teilweise ionisiert wird und das verdampfte Material oder sein Reaktant unter dem Beschuss mit den Gasionen oder den verdampften Materialionen auf dem Substrat abgeschieden wird. Dazu gehören Magnetron-Sputter-Ionenplattieren, reaktives Ionenplattieren, Hohlkathoden-Entladungs-Ionenplattieren (Hohlkathoden-Verdampfungsverfahren), Multi-Arc-Ionenplattieren (Kathoden-Lichtbogen-Ionenplattieren) usw.

Während des Ionenplattierens bewegen sich die verdampfenden Materialpartikel in Form von geladenen Ionen entlang der Richtung des elektrischen Felds im elektrischen Feld, sodass jedes Teil mit einem elektrischen Feld eine gute Beschichtung erhalten kann, die der gewöhnlichen Vakuumbeschichtung überlegen ist, die nur möglich ist in direkter Richtung erhalten werden. viel mehr.

Unter Verwendung der am häufigsten verwendeten Bindemittel auf Eisen- und Kupferbasis als Matrix, Hinzufügen von unplattierten bzw. titanbeschichteten Diamanten auf der Oberfläche und anschließendem Heißpresssintern bei unterschiedlichen Sintertemperaturen, um die Bindemittelmatrix auf Eisen- und Kupferbasis zu erhalten und eisenbasierte und kupferbasierte Bindemittelmatrix. Die Wirkung der Titanplattierung auf der Diamantoberfläche auf die Haltekraft des metallgebundenen Diamantsegments wurde untersucht, indem die Biegefestigkeit des Segments getestet und die mikroskopische Morphologie des Segmentabschnitts beobachtet wurde.

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Anwendung

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